Октябрь 11th, 2023 
raven000 На прошлой неделе голландская организация ASML — самый крупный во всем мире изготовитель оснащения для литографской проекции при производстве полупроводников — провела встречу с инвесторами и разлила свет на собственные производственные проекты, и расценил виды области. С позиции ASML, чьи сканеры примерно приобретают в 84 вариантах из 100, рынок практический электроники показывает и будет показывать привлекательное состояние здоровья. Например, чипсеты будут востребованы для области связи 5G, ИИ, независимого вождения и огромных данных.
Первый торговый принтер ASML для EUV-литографии (NXE:3300B)
Необходимость в полупроводниках для показанных областей и иного передается в спрос на продукцию предприятий по обработке кремниевых пластинок во всех уголках мира. Специфический энтузиазм появляется к самым современным техпроцессам, что области практически всегда было не характерно. Потому также складывающаяся ситуация будет благодетельствовать проходу от DUV-сканеров (193-нм) на EUV-сканеры (13,5-нм). Новые техпроцессы вновь поддержат законопроект Мура и гарантируют понижение масштабов технических общепризнанных мерок как с позиции удешевления изготовления, так и с позиций повышения мощности решений.
И более того, в компании официально доказали, что сканеры EUV в ближайшее время будут использоваться не только лишь для производства 7-нм логики (микропроцессоров и иного), но и для изготовления памяти вида DRAM. Сканеры для производства DRAM установлены заказчикам и проходят искусную проверку. С применением EUV-проекции начнется выпуск микросхем памяти с общепризнанными мерками 16 hm. Они помогут удешевить изготовление DRAM. Например, за счёт понижения числа доступов при проекции. Если вы внимательным образом следили за вестями на нашем веб-сайте, то вам несложно будет вспомнить, что 16-нм DRAM с применением сканеров EUV будет производить «Самсунг».
Принтер ASML для EUV-литографии с оголённой зрительной технологией зеркал (NXE:3300B)
Свежим сканером для EUV будет установка NXE:3400C с мощностью 170 пластинок в час при 90 % перегрузке. Важные модификации сканеров NXE:3400B готовы в таких же условиях за час обрабатывать до 150 пластинок. Этим самым за сутки набегает полтысячи обработанных пластинок, что будет отличным доводов в пользу прохода на сканеры EUV. Одновременно ASML гарантирует повысить разрешение сканеров EUV при помощи производства оптики не только лишь с числительный апертурой 0,33 NA, но и с NA 0,55, что произойдёт в следующую декаду. Свежее оснащение может быть встречено в области с вниманием, так как бизнес по производству полупроводников (логики, DRAM и NAND), как убеждены в ASML, ждёт отличный рост по меньшей мере до 2025 года со среднегодовым признаком повышения 15–20 %.
Опубликовано в рубрике 
